炉管工艺工程师（前沿薄膜）

岗位职责：1.跟踪ALD/CVD/抑制剂薄膜等前沿技术，提炼新机台特点；2.调研高深宽比填充用ALD  OX工艺，提出创新技术方案；3.开展大硅片Poly-Si沉积技术调研与均匀性研究；4.撰写技术调研报告与新机台工艺需求规格书。任职要求：1.硕士及以上学历，材料、化学、物理、微电子等相关专业；2.研究方向符合以下任一：薄膜生长沉积、硅薄膜/Poly-Si、TiN/TiO₂等ALD材料、半导体前驱体、高深宽比填充；3.具备文献调研与快速归纳能力；4.熟悉3D  NAND/DRAM等先进制程中对薄膜填充的技术指标（深宽比>10:1、无孔洞填充等）者优先；5.具备技术报告撰写与PPT汇报能力，能将调研成果转化为技术提案；6.能阅读英文文献，有ALD/CVD机台实操经验者优先。